在LED外延及芯片制造领域,湿法设备占据约40%以上的工艺,随着工艺技术的不断发展,湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备,如SPM酸清洗、**清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。南通华林科纳CSE深入研究LED生产工艺,现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。 一、设备名称 设备名称:外延片清洗机 整机尺寸:具体尺寸根据实际图纸确定 二、可处理晶圆 尺寸:2”-12” 材料:硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等 三、应用领域 集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等 四、专有技术 系统洁净性技术 均匀性技术 晶圆片N2干燥技术 模块化系统集成技术 自动传输及精确控制技术 溶液温度、流量和压力的精确控制技术 五、主要技术特点 系统结构紧凑、安全 腔体独立密封,具有多种功能 可实现晶圆干进干出 采用工控机控制,功能强大,操作简便 可根据用户要求提供个性化解决方案